石英坩埚
本产品现已应用于制取荧光粉、氧化铝、铂、铑、钯等稀土行业和稀有金属行业。
半导体用透明石英玻璃坩埚规格尺寸
（分园底和平底两种）气炼法生产
外直径D |
高度H |
底部半径R |
厚度S |
同一横截面的
厚度公差 |
80±0.5/0.8 |
60±2 |
D-1/2 |
2.0±0.5 |
0.3 |
90±0.5/0.8 |
70±2 |
D-1/2 |
2.0±0.5 |
0.3 |
100±0.5/1.0 |
80±3 |
D-1/2 |
2.3±0.5 |
0.3 |
106±0.5/1.0 |
90±3 |
D-1/2 |
2.3±0.5 |
0.3 |
114±0.5/1.0 |
75±3 |
D-1/2 |
2.3±0.5 |
0.3 |
130±0.5/1.0 |
110±3 |
D-1/2 |
2.5±0.5 |
0.4 |
134±0.5/1.0 |
110±3 |
D-1/2 |
2.5±0.5 |
0.4 |
153±0.5/2.0 |
153±3 |
D-1/2 |
3.0±0.5 |
0.4 |
178±0.5/5 |
178±3 |
D-1/2 |
3.0±0.5 |
0.4 |
203±0.5/5 |
203±3 |
D-1/2 |
3.0±0.5 |
0.4 |
注：透明石英玻璃坩埚也可以根据客户要求生产
半导体工业用高纯电弧法制石英坩埚
用电弧法制的半导体半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点
规格尺寸:
坩埚尺寸 |
外径 |
高度 |
厚度 |
R* |
r* |
t1 |
t2 |
t3 |
8″ |
203±0/3 |
153±3 |
5.5±1.5 |
3 |
8.5 |
305 |
30 |
10″ |
254±2 |
178±3 |
6.0±1.5 |
3.5 |
9 |
305 |
70 |
12″ |
305±2 |
228±3 |
6.5±1.5 |
4 |
9.5 |
305 |
80 |
14″ |
355±2 |
254±3 |
7.5±1.5 |
5 |
10.5 |
400 |
90 |
16″ |
404±2 |
305±3 |
8.5±1.5 |
6 |
11.5 |
400 |
90 |
18″ |
457±2 |
355±3 |
8.5±1.5 |
6 |
11.5 |
500 |
120 |
20″ |
508±4 |
381±3 |
6 |
6 |
11.0 |
500 |
120 |
22″ |
558±4.5 |
381±3 |
7 |
7 |
11.0 |
558 |
89 |
24″ |
610±4.5 |
381±3 |
7±1 |
7±1 |
11.0 |
610 |
89 |
|
